光谷联合科技城位居武汉光谷科技创新大走廊,是湖北省科技厅、鄂州市国家级葛店开发区、中电光谷三方合作打造的新兴产业综合体和科技成果转化示范区。 园区规划用地面积约2000亩,建筑面积约120万方。光谷联合科技城发挥三方优势资源,建设以电子商务、光电信息、智能装备制造、新材料为主导产业的科技园区,集聚高成长性中小型科技企业,实现产城一体。项目全面建成后,将吸纳200至300家科技创新企业,重点培育10至20家国内外上市企业,形成年产值约60亿元、税收5亿元的国内科技企业加速器示范基地。 产品说明: ①"2+1"式,层高:首层7.5m+二层4.2m+三层3.6m; ②单层面积:一层约1636㎡,二层约1636㎡,三层约1115㎡(具体面积以实测报告为准); ③楼面荷载:首层不大于10KN/㎡,标准层为5.0KN/㎡,上人屋面为3.0KN/㎡,不上人屋面为0.5KN/㎡
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